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高周波焼入誘導加熱装置を導入しました
- shirai53
- 2018年11月28日
- 読了時間: 1分
新しい高周波焼入誘導加熱装置の出力を200kVから300kVの範囲で、周波数を10kHzから30kHzの範囲で制御、調整することが可能になりました。 これによって、深さ5mmの焼入が可能になります。
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